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半導體氫氣發(fā)生器的應用

更新時間:2023-07-20點擊次數(shù):2196
  氫氣發(fā)生器是實驗室中重要的制取氫氣設備,如何正確操作氫氣發(fā)生器,對于實驗的進行有著重要的作用。氫氣發(fā)生器是一種用于氫燃料電池的自調式氫氣發(fā)生器。氫氣發(fā)生器主要由電解池、流量顯示、開關電源、凈化、液路壓力自控等系統(tǒng)組成。
 

 

  氫氣發(fā)生器啟動前要添加氫氧化鉀電解液,充分攪拌溶解,靜等電解液*冷卻后再注入儲液桶中待用,然后加入高純水,注意不能超過上限水位線,但是也不要低于下限水位線,隨后擰上外蓋。液位管中的白色東西是液位管接口處的潤滑劑,不影響使用,待整體換液后就好。
 
  氫氣發(fā)生器的電解池是桶狀的,它在電解池內會存有相當一部分電解液,所以將儲液桶內的電解液吸干凈后,還需要將氫氣發(fā)生器向后傾斜90°,此時電解池內的電解液就會流到儲液桶內,再用洗耳球把儲液桶內的電解液吸干凈。然后將內蓋裝上后擰上外蓋,以免殘留的電解液在運輸時會發(fā)生外溢,將氫氣發(fā)生器腐蝕造成無法修復的后果。
 
  氫氣作為半導體制造中的氣源,在半導體材料及器件制備中起到至關重要的作用??稍诠怆娖骷鞲衅?、IC制造中應用。目前半導體工藝中氫氣主要用于退火、外延生長、干法刻蝕等工藝。
 
  退火是通過高溫加熱釋放材料內部應力從而改善材料質量的一種材料處理辦法,氫氣作為保護氣可以起到防止氧化等作用,多用于薄膜生長后釋放應力。氫氣在等離子體刻蝕(RIE/ICP)中作為反應氣體出現(xiàn),等離子體刻蝕原理是利用反應氣體離化后與材料發(fā)生反應生成揮發(fā)性物質,從而實現(xiàn)材料圖形化,是半導體器件制備的不可少的工藝。
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